| 专利名称 | 电光控制二维激光光束扫描阵列 | 申请号 | CN200810037759.1 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101285980 | 公开（授权）日 | 2008.10.15 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 职亚楠;闫爱民;刘德安;周煜;孙建锋;刘立人 | 主分类号 | G02F1/29(2006.01)I | IPC主分类号 | G02F1/29(2006.01)I | 专利有效期 | 电光控制二维激光光束扫描阵列 至电光控制二维激光光束扫描阵列 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种电光控制二维激光光束扫描阵列，其特征是由控制阵列和发射阵列两部分 组成，所述的控制阵列是单列的N个电光开关单元构成，所述的发射阵列的结构是 由N×M电光开关单元构成的N行M列的矩阵结构，形成N+N×M光束扫描阵列， 其中N和M是大于1的正整数，所述的电光开关单元由两个光轴方向不同的第一晶 体和第二晶体组合而成：入射光方向沿第一晶体的光轴前进，在第一晶体垂直于光 轴的两相对的表面镀金属电极对，以便给该晶体施加横向半波电压；第二晶体为体 全息光栅。本发明具有体积小、结构紧凑、功耗低、开关速度快、扫描精度高、扫 描范围大、控制简单等优点，并可以通过改变出射面的倾角实现发射角度的改变， 具有良好的发展前景。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障