| 专利名称 | 一种新型ICP刻蚀机预真空腔的盖子 | 申请号 | CN201120352734.8 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN202307789U | 公开（授权）日 | 2012.07.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心 | 发明（设计）人 | 陈波;黄成强;李超波;饶志鹏 | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I | IPC主分类号 | H01J37/32(2006.01)I | 专利有效期 | 一种新型ICP刻蚀机预真空腔的盖子 至一种新型ICP刻蚀机预真空腔的盖子 | 法律状态 | 专利申请权、专利权的转移 | 说明书摘要 | 一种新型ICP刻蚀机预真空腔的盖子，其安装在预真空腔上，包括盖子主体，所述盖子主体上设有观察窗，所述盖子主体上连接有轴承板，所述轴承板可转动的与固定杆连接，所述固定杆连接在预真空腔的腔体上，所述固定杆的下端与轴承板之间安装有带动轴承板转动的气弹簧。本实用新型的有益效果：自动化程度大，不浪费人力物力。 |
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