| 专利名称 | 调整闪耀光栅离子束刻蚀装置中栅线与束流垂直度的方法 | 申请号 | CN201310011786.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103091753A | 公开（授权）日 | 2013.05.08 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 谭鑫;吴娜;巴音贺希格;齐向东 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 调整闪耀光栅离子束刻蚀装置中栅线与束流垂直度的方法 至调整闪耀光栅离子束刻蚀装置中栅线与束流垂直度的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 调整闪耀光栅离子束刻蚀装置中栅线与束流垂直度的方法，涉及光谱技术领域，解决现有调整离子束与光栅刻线方向垂直度的方法存在垂直度精度较低且存在误差的问题，建立离子束刻蚀装置；制备刻有两条正交直线及开有中心圆孔的平板；在离子束刻蚀装置中置入激光器、反射镜及平板，使激光器发出的激光束通过平板中心圆孔入射到反射镜，经反射镜反射的光入射至光栅表面形成0级衍射光及-1级衍射光；通过调整五维样品台的旋转及俯仰，使-1级衍射光入射回平板的圆孔内；最终光栅栅线与离子束流的垂直度调整完毕。该方法能快速准确的调整光栅栅线与离子束流的垂直度，对制作出高质量的平面闪耀全息光栅有直接的重要意义。 |
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