一种有机三阶非线性光学材料4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶三氟磺酸盐及其合成方法

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专利名称 一种有机三阶非线性光学材料4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶三氟磺酸盐及其合成方法 申请号 CN201110351131.0 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102558034A 公开(授权)日 2012.07.11 申请(专利权)人 中国科学院福建物质结构研究所 发明(设计)人 罗军华;孙志华;陈天亮;洪茂椿 主分类号 C07D213/38(2006.01)I IPC主分类号 C07D213/38(2006.01)I;C07C309/06(2006.01)I;C07C303/32(2006.01)I;G02F1/361(2006.01)I 专利有效期 一种有机三阶非线性光学材料4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶三氟磺酸盐及其合成方法 至一种有机三阶非线性光学材料4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶三氟磺酸盐及其合成方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明涉及一种有机三阶非线性光学材料4-(4-二甲基氨基苯乙烯基)甲基吡啶三氟磺酸盐及其合成方法,属于功能材料领域。该材料的化学式为C17H19N2O3F3S,室温下属于单斜晶系,其空间群为P21/C,晶胞参数为a=17.508(5),b=7.607(2),c=13.533(4)?,α=90.0°,β=93.712(6)°,γ=90.0°,Z=4,V=1798.4(10)?3。本发明的三阶非线性光学材料具有良好的热学稳定性、较大的非线性吸收效应和自散焦性质,且制备过程中所采用的原料易得、化学合成路线简单、反应条件温和,具有潜在的实施价值。

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