| 专利名称 | 激光干涉技术辅助电化学技术制备纳米栅极的方法 | 申请号 | CN201010101489.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101847670A | 公开（授权）日 | 2010.09.29 | 申请（专利权）人 | 长春理工大学;中国科学院光电技术研究所;星火机电设备工程有限公司 | 发明（设计）人 | 翁占坤;王作斌;宋正勋;胡贞;徐佳;张锦;刘水庆;龚太全 | 主分类号 | H01L31/18(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0224(2006.01)I | 专利有效期 | 激光干涉技术辅助电化学技术制备纳米栅极的方法 至激光干涉技术辅助电化学技术制备纳米栅极的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种基于激光干涉技术辅助电化学技术制备纳米栅极的方法，应用于太阳能电池、微/纳米光电子器件等领域。本发明包括如下步骤：a)在形成的p-n结衬底片表面或半导体衬底片表面旋涂光刻胶并烘干；b)然后经过双光束激光干涉技术曝光；c)经选择性溶液除去曝光的光刻胶，并经电化学技术沉积金属栅极；d)最后经选择性溶液移除未曝光的光刻胶，并进行热处理，获得亚微米/纳米金属栅极。本发明实现的亚微米/纳米栅极，具有大面积、高效、廉价、简便、可在大气环境下进行和可控性等优点，便于推广和商业化。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障