| 专利名称 | 微细结构的光刻方法 | 申请号 | CN201110006476.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102591139A | 公开（授权）日 | 2012.07.18 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 王红丽;闫江 | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/00(2006.01)I;G03F1/20(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 专利有效期 | 微细结构的光刻方法 至微细结构的光刻方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种微细结构的光刻方法，包括：在衬底上形成结构材料层和第一硬掩模材料层；进行第一光刻，形成第一硬掩模图形；在第一硬掩模图形上形成第二硬掩模材料层；进行第二光刻，形成第二硬掩模图形。其中。第一光刻和第二光刻的光源不同，选自i线水银弧光灯和电子束曝光系统两者之一。依照本发明的微细结构的光刻方法，将传统光学光刻技术和电子束光刻技术结合起来使用，利用电子束曝光来实现微细图形的制作，利用光学光刻来完成其他图形，这样可以既有效解决微细图形的制作问题，又不损失效率。 |
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