| 专利名称 | 一种玻璃镀膜靶材及其制备方法 | 申请号 | CN200910187392.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102021515A | 公开（授权）日 | 2011.04.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院金属研究所 | 发明（设计）人 | 徐娜;常新春;侯万良;张甲;张春智;张凤军;王建强;全明秀 | 主分类号 | C23C14/18(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/18(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;C03C17/245(2006.01)I;C23C4/04(2006.01)I | 专利有效期 | 一种玻璃镀膜靶材及其制备方法 至一种玻璃镀膜靶材及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及玻璃镀膜靶材制备领域，具体为一种玻璃镀膜靶材及其制备方法，解决磁控溅射玻璃镀膜靶材制备问题。该玻璃镀膜靶材采用的原材料为SiAl粉末，由纯Si粉和纯Al粉机械混合制得，混合粉末中各组元质量百分比及粒度为：Si粉85-95wt％，粒度45-125μm；Al粉5-15wt％，粒度30-100μm。该玻璃镀膜靶材采用常压等离子喷涂技术制备，制备工艺参数为：电流400-500A，电压45-58V，送粉量40-60g/min，送粉气流量5.0-7.0L/min，主气流量41-43L/min，主气压力0.45-0.55MPa，次气流量1.6-2.8L/min，次气压力0.25-0.35MPa，喷涂距离100-150mm，喷涂角度75-90°。采用本发明制备的溅射阴极靶材可适用于镀膜玻璃的生产，具有重要的工业应用价值。 |
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