| 专利名称 | 一种用于投影光刻纳米量级自动调焦系统 | 申请号 | CN201110082634.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102141738A | 公开（授权）日 | 2011.08.03 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 徐锋;胡松;罗正全;周绍林;陈旺富;李金龙;谢飞;李兰兰;盛壮 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于投影光刻纳米量级自动调焦系统 至一种用于投影光刻纳米量级自动调焦系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明是一种用于投影光刻纳米量级自动调焦系统，由光路、图像处理模块、电路控制模块组成。光路包括准直激光束、两个光栅标记、四个透镜、硅片台、CCD图像探测器；准直激光束垂直照明一光栅标记，并沿着一、二透镜的光轴对硅片台表面构成掠入射成像，投影在硅片台被测表面上并发生镜面反射，光栅像通过三、四透镜再次成像在四透镜的焦面上，一光栅标记的像与二光栅标记以一定间隙重叠，发生多次衍射，并在光栅的表面形成放大的莫尔干涉条纹，然后成像于CCD图像探测器上。通过图像处理模块对图像进行处理提取出相位差，进而计算出离焦量；再通过电路控制模块判断硅片台表面的离焦情况，进而控制硅片台移动，使硅片台表面达到最佳焦面位置。 |
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