一种石墨烯-炭纳米复合透明导电薄膜及其制备方法

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专利名称 一种石墨烯-炭纳米复合透明导电薄膜及其制备方法 申请号 CN201110288761.8 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN103021503A 公开(授权)日 2013.04.03 申请(专利权)人 国家纳米科学中心 发明(设计)人 智林杰;方岩;王杰;罗彬;张先锋;梁明会;何海勇;贾玉莹;邱腾飞 主分类号 H01B1/04(2006.01)I IPC主分类号 H01B1/04(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I;C01B31/02(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;B82Y30/00(2011.01)I 专利有效期 一种石墨烯-炭纳米复合透明导电薄膜及其制备方法 至一种石墨烯-炭纳米复合透明导电薄膜及其制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明提供一种石墨烯-炭纳米复合透明导电薄膜及其制备方法,通过往氧化石墨烯分散液中添加各种成炭前驱物,然后再进行热还原制得的石墨烯-炭纳米复合薄膜石墨化程度明显提高,从而大幅提升了产品的导电性能,且又不影响膜的透光率。此外,与单纯石墨烯薄膜相比,该薄膜的粗糙度小于0.2nm,平整度高。本发明的制备方法工艺简单,所用试剂性质温和,可以应用于大规模生产,在触摸屏、太阳能电池、发光二极管等光电领域有着很好的应用前景。

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