功率半导体器件的背面集电极结构

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专利名称 功率半导体器件的背面集电极结构 申请号 CN201310013013.8 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN103077962A 公开(授权)日 2013.05.01 申请(专利权)人 江苏物联网研究发展中心;中国科学院微电子研究所;江苏中科君芯科技有限公司 发明(设计)人 陈宏;朱阳军;邱颖斌;徐承福;吴凯 主分类号 H01L29/417(2006.01)I IPC主分类号 H01L29/417(2006.01)I 专利有效期 功率半导体器件的背面集电极结构 至功率半导体器件的背面集电极结构 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明涉及一种功率半导体器件的背面集电极结构,按照本发明提供的技术方案,所述功率半导体器件的背面集电极结构,在N导电类型硅衬底的背面设有P导电类型氮化镓层,在P导电类型氮化镓层的背面设有集电极。本发明在器件的背面制作异质结结构提高注入效率,可以改善器件的导通压降,异质结界面缺陷较多,可以形成复合中心减少载流子寿命,改善关断特性。

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