| 专利名称 | 一种镀膜速率的精确标定方法及其应用 | 申请号 | CN201110358851.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103105190A | 公开（授权）日 | 2013.05.15 | 申请（专利权）人 | 常州光电技术研究所;中国科学院上海技术物理研究所;上海宇豪光电技术有限公司;江苏奥蓝工程玻璃有限公司;中科德孵镀膜科技（南通）有限公司 | 发明（设计）人 | 陆卫;王少伟;姬弘桢;俞立明;陈效双 | 主分类号 | G01D21/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G01D21/00(2006.01)I;G01B11/06(2006.01)I | 专利有效期 | 一种镀膜速率的精确标定方法及其应用 至一种镀膜速率的精确标定方法及其应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种镀膜速率的精确标定方法及其应用，方法为：制备包括衬底和干涉膜的标准基片；制备方法为：在衬底上引入一层足以形成干涉的干涉膜；测量标准基片的透射谱或反射谱；将待测速率薄膜镀制在标准基片上一段时间；测量镀膜后的标准基片的透射谱或反射谱；比较镀膜前后透射谱或反射谱，根据峰位的变化量计算出镀膜厚度从而计算出镀膜速率。本发明在衬底上预先引入一层足以形成干涉的干涉膜，在此基础上，只要在标准基片上镀制厚度极薄的待测薄膜，即可引起干涉峰位的明显偏移，远远高于传统方法直接在衬底上镀制待测薄膜前后透射谱的强度变化，可以显著提升标定精度，特别适用于在线检测和实时监控，尤其适合对超低镀膜速率的精确标定。 |
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