| 专利名称 | 用于CVD设备的多面漏斗型进气装置及CVD设备 | 申请号 | CN201310036037.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103060775A | 公开（授权）日 | 2013.04.24 | 申请（专利权）人 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 发明（设计）人 | 王劼;张立国;范亚明;张泽洪 | 主分类号 | C23C16/455(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C16/455(2006.01)I | 专利有效期 | 用于CVD设备的多面漏斗型进气装置及CVD设备 至用于CVD设备的多面漏斗型进气装置及CVD设备 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种用于CVD设备的多面漏斗型进气装置及CVD设备。该进气装置呈多面体形结构，包括呈环形分布的复数个漏斗瓶进气喷头，其中任一漏斗瓶进气喷头内均设有相互隔离的内层进气腔和外层进气腔，所述内层进气腔和外层进气腔分别与第一进气管和第二进气管连通。该CVD设备包括前述多面漏斗型进气装置。本发明能够将不同反应源气体分隔送入反应室中，使不同反应源到达衬底前就已充分混合，并且有效抑制预反应，同时，本发明还可使反应气体以一定角度，从一个小区域均匀扩散到一个大的区域之中，实现层流，为反应室提供均匀而且可以快速切换的供气。本发明可有效提高CVD设备外延生长的速度、质量以及原材料利用率。 |
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