| 专利名称 | 一种基于宏设计集成电路版图的方法 | 申请号 | CN201110171227.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102841953A | 公开（授权）日 | 2012.12.26 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 高立博;刘梦新;卢剑;罗家俊 | 主分类号 | G06F17/50(2006.01)I | IPC主分类号 | G06F17/50(2006.01)I | 专利有效期 | 一种基于宏设计集成电路版图的方法 至一种基于宏设计集成电路版图的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种基于宏设计集成电路版图的方法，特征在于包括以下步骤：（1）针对设计要求，拆分目标版图到多个最简图形单元；（2）与库对比，查看是否能由所述库中现有宏实现分解出的所述最简图形单元，如果是，则进行到步骤（3），否则转到步骤（4）；（3）调用相应的宏，设定参数，进行拼接，形成器件版图；（4）制作新宏，添加到所述库中，接下来按照步骤（3）形成器件版图。通过本发明，可以实现版图的复用，使得不同工艺之间转化迁移更便利，同时避免大量重复单元绘制时引起偏差与设计工时的浪费，提高精度与工作效率。利用制作宏的方法，可以定制化的制作新的宏，并添加到宏库中，使宏库的规模、适用性及实用性不断提高。 |
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