| 专利名称 | 一种干冰微粒喷射清洗装置 | 申请号 | CN201110166485.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102836844A | 公开（授权）日 | 2012.12.26 | 申请（专利权）人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明（设计）人 | 郭新贺;景玉鹏 | 主分类号 | B08B7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B08B7/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种干冰微粒喷射清洗装置 至一种干冰微粒喷射清洗装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种干冰微粒喷射清洗装置，属于半导体清洗技术领域。该装置包括CO2供应系统、清洗系统和真空系统；CO2供应系统为清洗系统提供清洗所需CO2，真空系统为清洗系统提供真空环境；CO2供应系统和真空系统分别连接于清洗系统。利用该装置时，清洗效率高，对硅片表面不会产生损伤，节省大量水资源，操作简单，无环境污染，可以使硅片表面达到高洁净度。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障