专利名称 | 一种复合相变材料靶材及其制备方法 | 申请号 | CN200910196759.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开(公告)号 | CN101660119 | 公开(授权)日 | 2010.03.03 | 申请(专利权)人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明(设计)人 | 宋志棠;陈邦明;宋三年 | 主分类号 | C23C14/06(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/06(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I;G11C16/02(2006.01)I;G11C11/56(2006.01)I;G11B7/241(2006.01)I | 专利有效期 | 一种复合相变材料靶材及其制备方法 至一种复合相变材料靶材及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种复合相变材料靶材及其制备方法。该复合相变材料靶材由 相变材料与另一种材料复合而成,制备时,首先将其中熔点较高的材料制备成圆 柱状作为基体,采用刻蚀工艺在此基体上制备出大小形状相同且分布均匀的圆柱 状小孔,然后将熔点较低的材料填充在小孔中,通过真空热压烧结工艺使两种材 料结合在一起,最后采用机械抛光的方式处理表面,得到光滑、均匀致密的复合 相变材料靶材。采用该方法制备的复合相变材料靶材中各成份分布均匀,组份可 以根据小孔的大小和密度调解,解决了复合材料靶材各成份分布不均匀的问题; 采用该靶材制备薄膜材料有利于实现两种不同材料的均匀复合,避免了多靶共溅 射工艺的复杂性和不稳定性。 |
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