| 专利名称 | 一种圆滑曲面微结构的制作方法 | 申请号 | CN200910195109.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101659391 | 公开（授权）日 | 2010.03.03 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 李刚;陈强;孙晓娜;赵建龙 | 主分类号 | B81C1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B81C1/00(2006.01)I;B81B7/02(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F7/038(2006.01)I;G03F1/14(2006.01)I | 专利有效期 | 一种圆滑曲面微结构的制作方法 至一种圆滑曲面微结构的制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种圆滑曲面微结构的制作方法，其特征在于所述的方法 以负性化学放大光刻胶(chemically amplified photoresist)为圆滑曲面微结构 的制作材料，首先在基片上旋涂第一层负性化学放大光刻胶，并软烘、曝光， 然后直接在第一层负性化学放大光刻胶上旋涂第二层负性化学放大光刻胶， 并进行后烘；利用后烘过程中第一层光刻胶曝光后产生的光酸各向同性扩散， 催化曝光区域及其相邻扩散区域光刻胶分子交联，显影后制得具有圆滑曲面 特征的微结构。本发明提出的圆滑曲面微结构的制作方法相对于传统的灰阶 掩膜技术和光刻胶回流方法，具有加工简便、成本低廉、结构稳固等特点。 |
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