二氧化钛纳米棒阵列薄膜的制备方法

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专利名称 二氧化钛纳米棒阵列薄膜的制备方法 申请号 CN200810118107.0 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN101649483 公开(授权)日 2010.02.17 申请(专利权)人 中国科学院理化技术研究所 发明(设计)人 刘春艳;张森;刘云 主分类号 C30B7/14(2006.01)I IPC主分类号 C30B7/14(2006.01)I;C30B29/16(2006.01)I;C30B29/62(2006.01)I;C01G23/053(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I 专利有效期 二氧化钛纳米棒阵列薄膜的制备方法 至二氧化钛纳米棒阵列薄膜的制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明涉及二氧化钛纳米棒阵列薄膜的制备方法,特别涉及一种利用液 相化学沉积(LPD)过程可在多种基底表面构建二氧化钛纳米棒阵列薄膜的方 法。将涂有晶种的基底浸没于含有无机盐的钛盐水溶液中,于30~100℃下恒 温,在基底表面生长出二氧化钛纳米棒阵列,将基底取出,清洗、干燥后, 即可得到与基底结合牢固的二氧化钛纳米棒阵列薄膜。本发明得到的纳米棒 阵列薄膜与基底结合牢固;纳米棒有序排列于基底表面;纳米棒的形貌和尺 寸较为均一;纳米棒的生长方向基本垂直于基底。本发明制备方法简单,制 备过程中不需要添加任何表面活性剂,也不需要任何模板辅助,后处理过程 简单易行。

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