一种有机薄膜晶体管及其制备方法

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专利名称 一种有机薄膜晶体管及其制备方法 申请号 CN201210030512.3 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102544368A 公开(授权)日 2012.07.04 申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 刘明;陆丛研;姬濯宇;商立伟;王宏;刘欣;韩买兴;陈映平 主分类号 H01L51/05(2006.01)I IPC主分类号 H01L51/05(2006.01)I;H01L51/10(2006.01)I 专利有效期 一种有机薄膜晶体管及其制备方法 至一种有机薄膜晶体管及其制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明公开了一种有机薄膜晶体管及其制备方法,该方法包括:在硅片上氧化制备二氧化硅绝缘层;对二氧化硅绝缘层进行OTS修饰;在修饰后的二氧化硅绝缘层表面上沉积生长有机半导体层;在有机半导体层表面上沉积生长一层金属氧化物半导体层;以及在金属氧化物半导体层表面上沉积生长一层金属电极。本发明的有机薄膜晶体管,具有性能高、工艺简单、重复性好,并且相对传统工艺制备的有机薄膜晶体管成本又明显降低。

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