| 专利名称 | 一种干法刻蚀无机材料基板等离子体刻蚀机的传片系统 | 申请号 | CN201120352731.4 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN202307824U | 公开（授权）日 | 2012.07.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院嘉兴微电子仪器与设备工程中心 | 发明（设计）人 | 李超波;黄成强;陈波;饶志鹏 | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I | IPC主分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01J37/02(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I;B25J9/08(2006.01)I | 专利有效期 | 一种干法刻蚀无机材料基板等离子体刻蚀机的传片系统 至一种干法刻蚀无机材料基板等离子体刻蚀机的传片系统 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 一种干法刻蚀无机材料基板等离子体刻蚀机的传片系统，其安装在预真空腔内，包括运送片盘的机械手，所述机械手固定连接在带动其运动的丝杆螺母上，所述丝杆螺母安装在丝杆上，所述丝杆通过齿轮副与伺服电机连接，所述齿轮副包括与伺服电机转子连接的主齿轮、与丝杆转子连接的副齿轮，所述主齿轮与副齿轮啮合连接。本实用新型的有益效果：传片效率高、可靠性好，且结构简单合理。 |
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