| 专利名称 | 用于中红外分布反馈光栅制备的全息曝光光路调整方法 | 申请号 | CN201210049218.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102540475A | 公开（授权）日 | 2012.07.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 发明（设计）人 | 李耀耀;李爱珍;张永刚;丁惠凤;李好斯白音;曹远迎 | 主分类号 | G02B27/09(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/09(2006.01)I;G02B26/08(2006.01)I;G02B27/46(2006.01)I | 专利有效期 | 用于中红外分布反馈光栅制备的全息曝光光路调整方法 至用于中红外分布反馈光栅制备的全息曝光光路调整方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种用于中红外分布反馈光栅制备的全息曝光光路调整方法，包括以下步骤：通过两个高反镜调整全息曝光系统的入射激光的光路，使入射激光进入全息曝光系统；通过一个反射镜确定入射激光器在曝光平台另一侧的入射点和入射角度，利用反射镜确定的入射点和入射角度作为参考，调整空间滤波器和准直透镜，得到一束扩束的平行光；调整置片台，通过置片台的安装，使扩束后的平行光分为两束相干、平行的光束，两光束在置片台上通过干涉形成明暗相间的条纹。本发明能够减小中红外单模激光器制备工艺的复杂性。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障