一种耿氏二极管及其制备方法

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专利名称 一种耿氏二极管及其制备方法 申请号 CN201010580735.8 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102544113A 公开(授权)日 2012.07.04 申请(专利权)人 中国科学院微电子研究所 发明(设计)人 黄杰;杨浩;张海英;田超;董军荣 主分类号 H01L29/861(2006.01)I IPC主分类号 H01L29/861(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I 专利有效期 一种耿氏二极管及其制备方法 至一种耿氏二极管及其制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明涉及微波器件中二极管技术领域,具体涉及一种耿氏二极管及其制备方法。一种耿氏二极管的外延片从下至上依次包括半导体绝缘GaAs衬底,高掺杂下底面n+GaAs层,有源区n-GaAs层,nsGaAs层,GaAs本征下隔离层,AlxGa1-xAs本征势垒层,GaAs本征上隔离层,高掺杂上表面n+GaAs层。本发明提供的耿氏二极管能够有效减小有源区n-GaAs层中的死区,增加直流到射频信号转换效率和提高热稳定性,且可以利用直流电压直接对输出振荡频率和功率调谐;本发明提供的耿氏二极管的制备方法简便,易于实现单片集成。

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