| 专利名称 | 一种二维位置跟踪测量装置及其测量方法 | 申请号 | CN201010585777.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102538663A | 公开（授权）日 | 2012.07.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院沈阳自动化研究所 | 发明（设计）人 | 朱思俊;郭大忠;邹媛媛;柳连柱;赵明扬;许石哲 | 主分类号 | G01B11/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/00(2006.01)I | 专利有效期 | 一种二维位置跟踪测量装置及其测量方法 至一种二维位置跟踪测量装置及其测量方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明属于测量领域，具体地说是一种二维位置跟踪测量装置及其测量方法，装置包括干涉仪本体、干涉计镜组、偏差检测系统、随动系统、转向元件及目标反射镜，偏差检测系统包括分光元件及光斑位置传感器；方法为干涉仪本体发射的激光依次通过干涉计镜组、分光元件，经转向元件转向后照射到目标反射镜上，目标反射镜反射的光经转向元件转向后照射到分光元件上、分为两路，一路反射回干涉仪本体，另一路照射在光斑位置传感器上；由光斑位置传感器检测出偏移量，再将检测出的偏移量转换成位移信号后传递给伺服电机，由伺服电机驱动转向元件移动，使转向元件准确跟踪目标反射镜。本发明测量精度高，结构简单，便携性好；测量方法简单，可靠性强。 |
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