| 专利名称 | 一种角度自适应抛光磨头 | 申请号 | CN201110452754.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102528628A | 公开（授权）日 | 2012.07.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 王君林;王绍治;刘健;马占龙;张玲花 | 主分类号 | B24B29/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B29/00(2006.01)I;B24B41/04(2006.01)I | 专利有效期 | 一种角度自适应抛光磨头 至一种角度自适应抛光磨头 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种角度自适应抛光磨头，属于光学冷加工领域中涉及的一种抛光磨头。其解决了现有磨头存在的磨头与工件表面间角度有误差，抛光效果差的技术问题。本发明的角度自适应抛光磨头包括连接件、调整螺钉、弹簧、带有沉孔的调整板、波纹管和磨头体；该磨头分为两级调整，首先旋转连接件上的螺钉，使调整板与工件表面大体平行，然后依靠波纹管本身的柔性实现磨头与工件表面的贴合。本发明只需旋转螺钉完成粗调即可通过波纹管本身进行自适应，极大的降低了磨头角度调整的难度。 |
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