| 专利名称 | 形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法 | 申请号 | CN201010616632.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102530929A | 公开（授权）日 | 2012.07.04 | 申请（专利权）人 | 国家纳米科学中心 | 发明（设计）人 | 韩宝航;承倩怡;吴冲;周鼎;孙树清 | 主分类号 | C01B31/04(2006.01)I | IPC主分类号 | C01B31/04(2006.01)I | 专利有效期 | 形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法 至形成石墨烯氧化物图案和石墨烯图案的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明的形成石墨烯氧化物图案的方法包括：(1)准备基底；(2)在基底的至少一个表面上制备疏水的自组装单分子膜；(3)用掩模覆盖所述疏水的自组装单分子膜后采用紫外线灯曝光，并在曝光后去除掩模，得到该至少一个表面含有图案化的自组装单分子膜模板的基底；(4)用石墨烯氧化物量子点的水溶液覆盖所述图案化的自组装单分子膜模板，干燥，从而在基底的该至少一个表面上形成石墨烯氧化物图案。本发明克服了现有技术中所制备的石墨烯氧化物图案不具有特征光学性质的缺陷，制备得到了具有激发依赖荧光特性的石墨烯氧化物图案。本发明的方法开拓了制备石墨烯氧化物图案的新的思路。 |
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