| 专利名称 | 一种提高电子材料印刷平整度的后处理方法 | 申请号 | CN201110436280.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102529479A | 公开（授权）日 | 2012.07.04 | 申请（专利权）人 | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 | 发明（设计）人 | 林剑;陈征;崔铮 | 主分类号 | B41M7/00(2006.01)I | IPC主分类号 | B41M7/00(2006.01)I;B41J2/01(2006.01)I | 专利有效期 | 一种提高电子材料印刷平整度的后处理方法 至一种提高电子材料印刷平整度的后处理方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明涉及一种对喷墨打印在衬底上的电子材料液膜进行低温干燥处理，减少或去除液膜中的溶剂部分，其中低温干燥处理的温度范围为零下5℃以下，泛指通过降温措施抑制油墨流动性的去除溶剂部分工艺，处理期间所述溶剂部分的为固态或液态。并且该低温干燥处理仅去除液膜中的部分溶剂，且去除的部分溶剂比例满足标准成膜质量。实施本发明后处理工艺的效果显著，简言之即为通过低温干燥处理，可在现有的电子油墨和打印工艺的基础上有效消除或减少喷墨打印所制备电子薄膜中的凹凸不平现象，有利于印刷电子产品质量的提高。? |
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