| 专利名称 | 随机达曼光栅的制备方法 | 申请号 | CN201210007105.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102565903A | 公开（授权）日 | 2012.07.11 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 王少卿;周常河;韦盛斌;贾伟;曹红超;麻健勇 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 专利有效期 | 随机达曼光栅的制备方法 至随机达曼光栅的制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种随机达曼光栅的制备方法，包括下列步骤：①在两面平行的透明介质基片的一面涂匀光刻胶，置于随机光场下曝光显影并刻蚀，从而在刻蚀面形成具备一定深度的随机图案，②在所述的透明介质另一面涂匀光刻胶，置于达曼光栅掩模图案下曝光显影和刻蚀，形成具备一定深度的传统达曼光栅结构图案。或先单独加工一个传统的达曼光栅和一个随机相位板，将所述的达曼光栅和所述的随机相位板紧贴组合在一起形成。本发明随机达曼光栅具备衍射光信息量大的优点，相对于传统随机相位板，随机达曼光栅衍射光具备规则点阵光信息，信噪比高，信号处理方便等优点。随机达曼光栅有望在精密测量、机器视觉、航空航天等领域得到广泛的应用。 |
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