| 专利名称 | 基于柱面镜聚焦的全息扫描高密度光栅的制备装置 | 申请号 | CN201210033824.X | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102566391A | 公开（授权）日 | 2012.07.11 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 贾伟;周常河;俞斌;麻健勇;王少卿;曹红超 | 主分类号 | G03H1/12(2006.01)I | IPC主分类号 | G03H1/12(2006.01)I;G02B5/18(2006.01)I | 专利有效期 | 基于柱面镜聚焦的全息扫描高密度光栅的制备装置 至基于柱面镜聚焦的全息扫描高密度光栅的制备装置 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种基于柱面镜聚焦的全息扫描高密度光栅的制备装置，该装置包括双光束全息干涉光路，柱面镜，扫描平台和自动聚焦系统，由紫外激光器、第一半透半反镜、第一反射镜、第二反射镜、第一扩束准直装置、第二扩束准直装置、柱面镜、扫描平台、红光激光器、第二半透半反镜、像散透镜、四象限探测器组成，本发明装置可以实现高密度光栅的并行光刻，装置具有稳定性好、并行度高、光栅加工速度快等优点。 |
1、源头对接，价格透明
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