| 专利名称 | 用于改善焦线均匀度的柱面透镜列阵的设计方法 | 申请号 | CN201110342353.6 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102566046A | 公开（授权）日 | 2012.07.11 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 张琥杰;周申蕾;鄔融;林尊琪 | 主分类号 | G02B27/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B27/00(2006.01)I;G02B3/06(2006.01)I | 专利有效期 | 用于改善焦线均匀度的柱面透镜列阵的设计方法 至用于改善焦线均匀度的柱面透镜列阵的设计方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种用于改善焦线均匀度的柱面透镜列阵的设计方法，采用了非时齐模拟退火算法，改变经典柱面透镜列阵设计上各列阵元结构的一致性，使得新型的柱面透镜列阵由宽度、焦距不等的柱面透镜列阵元组成。本发明设计的子列阵元宽度、焦距保持焦面处的子焦线长度一致，最终这些子焦线在焦面处的迭加得到一个强度分布近乎平顶的焦线，从而实现焦线的空间强度分布均匀化。 |
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