| 专利名称 | 利用光栅成像扫描光刻制备大尺寸光栅的方法 | 申请号 | CN201210015259.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102565904A | 公开（授权）日 | 2012.07.11 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 俞斌;周常河;贾伟;麻健勇 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 利用光栅成像扫描光刻制备大尺寸光栅的方法 至利用光栅成像扫描光刻制备大尺寸光栅的方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种利用光栅成像后扫描光刻制备大尺寸光栅的方法，该方法包括：构建一个带有滤波装置的光栅成像光路系统；制备一片有锯齿形轮廓的位相光栅；利用步骤一所建立的光路，将位相光栅和基板引入光路中，使光栅清晰地成像于基板上；通过移动基板实现扫描光刻；将所述的完成扫描曝光基板进行显影、去铬、去胶、刻蚀再去铬这一系列工艺后即得到大尺寸光栅。本发明方法具有设备结构简单、不存在杂散光、能量利用率高的优点，在制作大尺寸光栅方面有很好的发展前景。 |
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