一种基于氧化锌材料的电阻式RAM存储单元及制备方法

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专利名称 一种基于氧化锌材料的电阻式RAM存储单元及制备方法 申请号 CN201010619223.8 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102136487A 公开(授权)日 2011.07.27 申请(专利权)人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明(设计)人 李效民;张锋;于伟东;高相东;何邕;甘小燕;吴亮 主分类号 H01L27/24(2006.01)I IPC主分类号 H01L27/24(2006.01)I;H01L45/00(2006.01)I 专利有效期 一种基于氧化锌材料的电阻式RAM存储单元及制备方法 至一种基于氧化锌材料的电阻式RAM存储单元及制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明公开了一种基于氧化锌材料的新型电阻式RAM(随机存储器)存储单元及制备方法。所述的存储单元包括开关元件和存储元件,特征在于开关元件以透明导电薄膜为底电极,以ZnO薄膜为中间层,以Pt、Au、Ir等功函数较高金属(M)为顶电极,形成FTO(ITO)/ZnO/M的结构。存储元件的中间层采用与开关元件相同的ZnO薄膜,以M为底电极和顶电极,形成M/ZnO/M的结构。两个中间层ZnO采用相同的氧等离子体辅助激光脉冲沉积制备工艺,制备出电学性能良好的ZnO薄膜。最大优点是获得了性能稳定的开关元件,并且开关元件和存储元件采用相同的制备工艺和薄膜材料,大大简化了工艺流程,获得了可实现稳定可逆电阻转变的并可避免误读操作的存储单元。

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