| 专利名称 | 聚四氟乙烯大面积漫反射参考板及其制造方法 | 申请号 | CN200910144165.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101614588 | 公开（授权）日 | 2009.12.30 | 申请（专利权）人 | 中国科学院安徽光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 沈政国;张黎明;韩慧达 | 主分类号 | G01J3/02(2006.01)I | IPC主分类号 | G01J3/02(2006.01)I;B29C43/18(2006.01)I;B29C43/58(2006.01)I | 专利有效期 | 聚四氟乙烯大面积漫反射参考板及其制造方法 至聚四氟乙烯大面积漫反射参考板及其制造方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种聚四氟乙烯大面积漫反射参考板及其制造方法，其特征在 于：包括金属框架，框架内侧壁上端固定安装有一圈金属固定托架，漫反射工作 面、底板、托板从上到下依次排列安装在框架内；框架上端面安装有略宽于框架 的边沿，框架下端面四边安装有固定条，固定条通过托板上的通孔与金属固定托 架固定连接。本发明提供的聚四氟乙烯大面积漫反射参考板强度好、重量轻、操 作方便、灵活；利用已有模具可制作不同尺寸聚四氟乙烯大面积漫反射参考板， 不受模具限制。该板适于实验室和野外使用，可根据需要安装在不同的平台上以 拓展使用范围。该板广泛应用于实验室、卫星上、场地替代辐射定标、野外地物 光谱测量及激光捕获目标、导引武器命中、激光测距和激光能量检测等。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
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4、专员跟进，交易保障