一种光响应杂化纳米粒子的制备方法

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专利名称 一种光响应杂化纳米粒子的制备方法 申请号 CN201210065399.2 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102604007A 公开(授权)日 2012.07.25 申请(专利权)人 中国科学院长春应用化学研究所 发明(设计)人 董志鑫;姬相玲;毛骏;王大鹏;杨木泉;薛彦虎 主分类号 C08F292/00(2006.01)I IPC主分类号 C08F292/00(2006.01)I;C08F220/34(2006.01)I;C08F220/32(2006.01)I;C08J3/28(2006.01)I;C08J3/24(2006.01)I 专利有效期 一种光响应杂化纳米粒子的制备方法 至一种光响应杂化纳米粒子的制备方法 法律状态 授权 说明书摘要 本发明公开了一种光响应杂化纳米粒子的制备方法,利用原子转移自由基聚合(ATRP)的方法将甲基丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯(DMAEMA)及双键修饰的香豆素(CMA)共聚接枝在SiO2纳米粒子表面,制备了光响应的SiO2-g-P(DMAEMA-co-CMA)杂化纳米粒子。与现有技术相比,本发明首次将DMAEMA和CMA共聚接枝到SiO2纳米粒子表面,制备的杂化纳米粒子具有光响应性,兼有生物相容性和“两栖性”。本发明提供的制备方法反应条件温和,方法简便易行,制备周期短,易于大规模生产。实验结果表明,通过调节紫外光照的波长,光响应杂化纳米粒子聚合物壳层交联-解交联过程可逆;并且制备的光响应杂化纳米粒子具有尺寸分布窄和尺寸可调的特点。

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