一种等效高斯光束远场辐射分布参数的求解方法

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专利名称 一种等效高斯光束远场辐射分布参数的求解方法 申请号 CN201210026114.4 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102622511A 公开(授权)日 2012.08.01 申请(专利权)人 中国科学院光电技术研究所 发明(设计)人 周磊;任戈;谭毅;田俊林 主分类号 G06F19/00(2011.01)I IPC主分类号 G06F19/00(2011.01)I 专利有效期 一种等效高斯光束远场辐射分布参数的求解方法 至一种等效高斯光束远场辐射分布参数的求解方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 一种等效高斯光束远场辐射分布参数的求解方法,步骤为:已知实际系统中目标平面内高斯光束远场辐射分布参数Ω,光束半高宽,目标尺寸形状和反射率;根据实际光束瞄准系统建立仿真模型;在仿真模型中,控制光束扫描目标,并记录扫描坐标和回波信号;根据扫描坐标和回波信号的对应关系,结合最小二乘估计准则,求出该目标尺寸下等效高斯光束远场辐射分布参数改变目标尺寸a,解出对应的利用多项式曲线拟合技术求出相对a的函数关系。本发明提出了等效高斯光束远场辐射分布参数的概念,给出了特定的光束半高宽下,和a的函数关系;解决了基于回波信号的瞄准系统中对不同尺寸目标的光束瞄准问题,大大提高了光束瞄准误差估计精度。

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