| 专利名称 | 一种SiO2减反射薄膜及其制备方法 | 申请号 | CN201210097416.0 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102617045A | 公开（授权）日 | 2012.08.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 发明（设计）人 | 宋伟杰;兰品军;李佳;鲁越晖;杨晔;谭瑞琴 | 主分类号 | C03C17/23(2006.01)I | IPC主分类号 | C03C17/23(2006.01)I | 专利有效期 | 一种SiO2减反射薄膜及其制备方法 至一种SiO2减反射薄膜及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种SiO2减反射薄膜，包括光伏玻璃衬底以及依次涂覆在光伏玻璃衬底上的10nm-30nm厚的第一SiO2致密层、50nm-300nm厚的SiO2纳米空心颗粒层和填充在SiO2纳米空心颗粒层中SiO2纳米空心颗粒之间孔隙中的第二SiO2致密物；第二SiO2致密物的填充总量等同于5nm-30nm厚的第一SiO2致密层中SiO2致密物的量。该薄膜具有优良的减反射性能、耐擦拭性能和耐久性。本发明还公开了该制备方法：在光伏玻璃上制备第一SiO2致密层，再制备SiO2纳米空心颗粒层并填充第二SiO2致密物，经高温处理得到SiO2减反射薄膜。该方法操作简单，适合工业化大规模应用。 |
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