| 专利名称 | 金属嵌入式熔融石英宽带反射光栅 | 申请号 | CN200910054514.4 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101609176 | 公开（授权）日 | 2009.12.23 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 周常河;曹红超;冯吉军 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | 专利有效期 | 金属嵌入式熔融石英宽带反射光栅 至金属嵌入式熔融石英宽带反射光栅 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种用于800纳米波段的金属嵌入式熔融石英宽带反射光栅，其特点在 于该光栅的周期为450～550纳米、刻蚀深度700～900纳米，金膜的厚度为 380～660纳米，光栅的占空比为0.4。本发明可使TE偏振光的-1级在130纳 米(780-910纳米)的波长带宽内的衍射效率大于90％； 当在相同的光栅结构 参数，而在非利特罗角使用时，该光栅可在284纳米的宽带内，即780～1064 纳米之间，TE偏振光的-1级衍射效率均高于80％。本发明金属嵌入式熔融石 英宽带反射光栅由光学全息记录技术或电子束直写装置结合微电子深刻蚀工 艺以及镀膜技术加工而成，取材方便，造价小，能大批量生产，具有重要的 实用前景。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
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