用于相变存储器的Si-Sb-Te基硫族化合物相变材料

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专利名称 用于相变存储器的Si-Sb-Te基硫族化合物相变材料 申请号 CN201110021620.X 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN102610745A 公开(授权)日 2012.07.25 申请(专利权)人 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 发明(设计)人 周夕淋;吴良才;宋志棠;饶峰;彭程;朱敏 主分类号 H01L45/00(2006.01)I IPC主分类号 H01L45/00(2006.01)I 专利有效期 用于相变存储器的Si-Sb-Te基硫族化合物相变材料 至用于相变存储器的Si-Sb-Te基硫族化合物相变材料 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明提供一种用于相变存储器的Si-Sb-Te基硫族化合物相变材料,属微电子技术领域。该种材料具有高热稳定性和高结晶速度,其组分通式为(SiaSbbTec)1-yMy,其中元素M是氮元素或氧元素或它们的混合物;在SiaSbbTec中,Si的含量a为10-25%原子百分比,Sb和Te的含量的原子百分比的比值为1.7≤(b/c)≤2.0;掺杂元素M的含量y是0-25%原子百分比。该材料在电学脉冲的作用下,可在非晶态(高阻态)和晶态(低阻态)之间进行可逆转变,从而实现信息存储。该材料与传统的Ge2Sb2Te5相比,具有较高的结晶温度、较高的热稳定性和更高的晶态电阻率,使用该材料作为信息存储介质可以大大提高器件的数据保持能力,同时能保持较快的操作速度和降低的写操作功耗,提高器件的可靠性。

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