| 专利名称 | 一种高分辨力超衍射聚焦结构透镜的制作方法 | 申请号 | CN201210107598.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102621610A | 公开（授权）日 | 2012.08.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;赵泽宇;王长涛;冯沁;王彦钦;胡承刚;黄成;陶兴;杨磊磊;姚纳 | 主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | IPC主分类号 | G02B5/18(2006.01)I | 专利有效期 | 一种高分辨力超衍射聚焦结构透镜的制作方法 至一种高分辨力超衍射聚焦结构透镜的制作方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种高分辨力超衍射聚焦结构透镜的制作方法，该方法选取合适的基底材料，在基底上蒸镀或溅射沉积一层金属膜，让一定偏振态的单色光垂直于金属膜上表面入射；选取金属膜上表面的中心点为坐标原点，过中心点的坐标轴分别为x轴和y轴，垂直于金属膜的中心点连线为z轴；依据等光程原理，计算出金属膜的Fresnel各级环带位置；利用现有纳米加工技术，对金属膜的各环带区域开纳米小孔。环带区域内纳米小孔的周期或非周期排布位置由入射光的偏振态决定；紧接着交替蒸镀或溅射沉积纳米厚度的金属和介质平面多层膜结构。本发明所设计的透镜结构简单，可以用于纳米光刻和数据存储，大量提高电子器件的集成度，具有广阔的发展前景。 |
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