| 专利名称 | 一种用于光刻的高效超分辨聚焦器件制备方法 | 申请号 | CN201210107586.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102621820A | 公开（授权）日 | 2012.08.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明（设计）人 | 罗先刚;王长涛;赵泽宇;王彦钦;冯沁;陶兴;杨磊磊;刘凯鹏;刘玲;姚纳 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B27/44(2006.01)I;G02B27/48(2006.01)I;C23C14/22(2006.01)I | 专利有效期 | 一种用于光刻的高效超分辨聚焦器件制备方法 至一种用于光刻的高效超分辨聚焦器件制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供一种用于光刻的高效超分辨聚焦器件制备方法，该方法首先确定入射波，再选取合适的基底材料，在基底上蒸镀或溅射沉积一层金属膜，让入射波垂直于金属膜表面入射；在金属膜上表面取中心点为原点，选定x轴方向及y轴方向，取垂直于金属膜表面方向为z轴方向；依据等光程原理计算菲涅尔各级波带的位置及宽度；在金属膜中心位置开出奇数级或偶数级菲涅尔波带环形条缝；利用现有纳米加工技术制作菲涅尔波带及凹槽；在金属膜上交替蒸镀或溅射沉积厚度为纳米级别的金属与介质多层薄膜以支持高频信息的传输；最后在多层膜上涂布光刻胶及沉积反射金属层即可得到超分辨的聚焦器件。本发明所设计的透镜结构简单，具有广阔的发展前景。 |
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