| 专利名称 | 一种高温高真空电阻炉 | 申请号 | CN201220033734.6 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN202648375U | 公开（授权）日 | 2013.01.02 | 申请（专利权）人 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 发明（设计）人 | 曹永革;郭旺;黄秋凤 | 主分类号 | F27B5/05(2006.01)I | IPC主分类号 | F27B5/05(2006.01)I;F27B5/06(2006.01)I;F27B5/18(2006.01)I | 专利有效期 | 一种高温高真空电阻炉 至一种高温高真空电阻炉 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型涉及一种高温高真空电阻炉。该电阻炉由电控柜、炉体、发热体、隔热屏、分子泵和干泵等零部件组成。该电阻炉结构科学且合理、真空性能和均温性能好的实验用高温真空炉，解决了透明陶瓷制备过程中由于加热器挥发造成材料污染的问题，同时实现了高温下的高真空获得，特别适合对于制备高性能透明陶瓷烧结所用。可实现冷态极限真空可达8*10-6Pa，系统漏率≤1×10-6Pa·L/S.，在高温下(1500℃-1900℃)真空5.8*10-5Pa的技术指标。 |
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