表面织构化n型ZnO基透明导电薄膜及其制备方法

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专利名称 表面织构化n型ZnO基透明导电薄膜及其制备方法 申请号 CN200910051996.8 专利类型 发明专利 公开(公告)号 CN101567395 公开(授权)日 2009.10.28 申请(专利权)人 中国科学院上海硅酸盐研究所 发明(设计)人 万冬云;黄富强 主分类号 H01L31/0224(2006.01)I IPC主分类号 H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/0236(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I 专利有效期 表面织构化n型ZnO基透明导电薄膜及其制备方法 至表面织构化n型ZnO基透明导电薄膜及其制备方法 法律状态 实质审查的生效 说明书摘要 本发明涉及表面织构化n型ZnO基透明导电薄膜及其制备方法。本发明在n 型ZnO基透明导电薄膜的膜面形成大量排列规则、结构均匀、连通良好且具有 一定深度的微孔结构。这种表面织构化的薄膜具备良好的光捕获性能,且同时 具有高的电导率。这种利用直流磁控连续溅射制备的表面织构化高性能n型ZnO 基透明导电薄膜,其工艺简单,质量易于监控,适于大规模生产;可保持本体膜 良好的柱状晶结构,孔与孔之间连通完好,保持了ZnO基膜的高电导率;织构 表面上的微孔,无论是均匀性还是重复性都是传统使用的上述两种方法无法比 拟的,且孔的深度和直径在一定范围内可控;膜层在可见光区平均透过率达到 90%以上,迁移率最高达35.4cm2/V·S,电阻率达到1.003×10-4Ω·cm,方块电阻 达到0.9Ω/□。

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