| 专利名称 | 平移对称标记及光刻机投影物镜波像差原位检测方法 | 申请号 | CN200910051320.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101556431 | 公开（授权）日 | 2009.10.14 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 邱自成;王向朝;袁琼雁;毕群玉;彭勃;段立峰;黄炳杰;曹宇婷;王渤帆 | 主分类号 | G03F1/00(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F1/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 平移对称标记及光刻机投影物镜波像差原位检测方法 至平移对称标记及光刻机投影物镜波像差原位检测方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种平移对称标记及光刻机投影物镜波像差原位检测方法，所述平移对称标记 由X方向平移对称光栅标记和Y方向平移对称光栅标记组成，该平移对称型光栅标 记的一个周期的结构是：每一个周期由平行的依次的无间隔排列的10个具有一定 宽度的线条区域组成，所述的第1和第6为不透光区域，所述的第2、第4、第8 和第10为180°相移透光区域，所述的第3、第5、第7和第9为0°相移的透光 区域。利用该平移对称型相移掩模光栅标记对光刻机投影物镜波像差原位检测，可 较大地提高光刻机投影物镜波像差灵敏度。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障