| 专利名称 | 基于二极照明的光刻机投影物镜奇像差的检测系统和方法 | 申请号 | CN200910050310.3 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN101551594 | 公开（授权）日 | 2009.10.07 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 彭勃;王向朝;邱自成;袁琼雁;曹宇婷;王渤帆 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 专利有效期 | 基于二极照明的光刻机投影物镜奇像差的检测系统和方法 至基于二极照明的光刻机投影物镜奇像差的检测系统和方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种基于二极照明的光刻机投影物镜奇像差的检测系统和方法，本发明的特点 是通过使用二极照明方式代替常规照明方式，优化了二极照明方式下作为检测标记 的移相光栅的周期参数，利用该检测标记检测光刻机投影物镜的波像差，检测精度 明显提高。 |
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