| 专利名称 | 基于工业化应用的斜面诱导自组装胶态晶体及其制备方法 | 申请号 | CN201210493248.7 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102995101A | 公开（授权）日 | 2013.03.27 | 申请（专利权）人 | 中国科学技术大学 | 发明（设计）人 | 吴以治;许小亮 | 主分类号 | C30B5/00(2006.01)I | IPC主分类号 | C30B5/00(2006.01)I | 专利有效期 | 基于工业化应用的斜面诱导自组装胶态晶体及其制备方法 至基于工业化应用的斜面诱导自组装胶态晶体及其制备方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明提供了一种基于工业化应用的斜面诱导自组装胶态晶体的方法，其包括如下步骤：（1）基底的准备：包括清洗和亲水化处理；（2）制备胶液：将微米球或纳米球分散在溶剂中，得到一定浓度的胶液；（3）将步骤（1）准备好的基底固定在某斜面上；（4）将步骤（3）含有基底的斜面放在恒温装置中；（5）在基底的顶部均匀地滴一排胶液，胶液沿着斜面流下，最后铺满整个基底；（6）干燥后，即得胶态晶体。本发明通过简单的装置，巧妙地利用自然界存在的力，通过上述方法，实现了在工业化大面积基底上的微米球和纳米球晶体的自组装。该晶体在现代半导体工业、微纳加工、数据存储、光学工程和微纳掩模（小球印刷术）等领域有非常好的应用前景。 |
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