| 专利名称 | 一种电弧离子镀铁磁性复合结构靶材及其应用 | 申请号 | CN201110288867.8 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103014632A | 公开（授权）日 | 2013.04.03 | 申请（专利权）人 | 中国科学院金属研究所 | 发明（设计）人 | 孙超;常正凯;肖金泉;宫骏;华伟刚;陈育秋 | 主分类号 | C23C14/32(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C14/32(2006.01)I | 专利有效期 | 一种电弧离子镀铁磁性复合结构靶材及其应用 至一种电弧离子镀铁磁性复合结构靶材及其应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明属于薄膜制备领域，具体地说是一种电弧离子镀铁磁性复合结构靶材及其应用。所述复合结构靶材包括高磁导率的软磁性材料靶壳与铁磁性材料靶材，所述铁磁性材料靶材与软磁性材料靶壳相连。本发明复合结构靶材解决了由于铁磁性靶材表面增加沟槽克服磁屏蔽时，降低了靶材使用寿命，进而本发明复合结构靶材解决了为改变靶面磁力线分布，在沉积系统中附加耦合磁场所带来的设备操作复杂及成本增加问题。 |
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