| 专利名称 | 一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用 | 申请号 | CN201210547993.5 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103084078A | 公开（授权）日 | 2013.05.08 | 申请（专利权）人 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 发明（设计）人 | 任吉中;张立秋;李晖;赵丹;冯世超 | 主分类号 | B01D71/64(2006.01)I | IPC主分类号 | B01D71/64(2006.01)I;B01D67/00(2006.01)I;B01D69/12(2006.01)I;B01D53/22(2006.01)I | 专利有效期 | 一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用 至一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种聚醚酰亚胺与气相二氧化硅混合基质膜、制备及应用，本发明选用含有极性醚氧基团的新型HQDEA-DMMDA聚醚酰亚胺为基质膜材料，选择气相二氧化硅粒子为填料，通过超声方法将二氧化硅均匀分散在基质膜溶液中制备气体分离膜，该混合基质膜具有较好的气体渗透性，并对H2/CH4,H2/N2,CO2/CH4,CO2/H2以及O2/N2等分离体系保持较高的分离性能。 |
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