| 专利名称 | 一种快速反演薄膜生长厚度的光学监控追迹方法 | 申请号 | CN201210501871.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN102980522A | 公开（授权）日 | 2013.03.20 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海技术物理研究所 | 发明（设计）人 | 蔡清元;郑玉祥;刘定权;罗海瀚 | 主分类号 | G01B11/06(2006.01)I | IPC主分类号 | G01B11/06(2006.01)I | 专利有效期 | 一种快速反演薄膜生长厚度的光学监控追迹方法 至一种快速反演薄膜生长厚度的光学监控追迹方法 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明公开了一种快速反演薄膜生长厚度的光学监控追迹方法，属于薄膜生长光学监控技术领域。该方法建立了一种有别于导纳追迹方式的光学监控追迹方式，以膜系透射率的倒数及膜层等效位相厚度同时作为追迹对象，可以在监控过程中实时看到薄膜生长过程中光学特性的变化，并建立直观的监控透射率信号与膜层厚度的对应关系，完成薄膜生长厚度的监控。根据设计参数进行理论计算并作好预期追迹图像，通过实际光学监控信号的极值点来修正预期追迹图像，完成实际追迹图像，获得实际膜层折射率,从而修正膜系设计参数，并进行不同膜层间厚度的自动补偿。 |
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