| 专利名称 | 一种双柔性自适应抛光磨头 | 申请号 | CN201310034268.2 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103072077A | 公开（授权）日 | 2013.05.01 | 申请（专利权）人 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 发明（设计）人 | 张健;代雷;马占龙;王立鹏;谷勇强;隋永新;杨怀江 | 主分类号 | B24B41/04(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B41/04(2006.01)I | 专利有效期 | 一种双柔性自适应抛光磨头 至一种双柔性自适应抛光磨头 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 本发明的一种双柔性自适应抛光磨头属于光学冷加工技术领域，目的在于解决现有技术中存在的抛光磨头表面与工件表面不匹配的问题，提高抛光质量。包括抛光主轴、连接法兰、弹簧、紧固螺栓、刚性基底、柔性层、刚性层和抛光层；所述抛光主轴与所述连接法兰实现滑动连接，连接法兰和刚性基底之间通过紧固螺栓实现紧密连接，所述抛光主轴、连接法兰和刚性基底同轴，所述弹簧位于连接法兰内部，并位于所述抛光主轴与所述刚性基底之间，所述刚性基底下方依次排列有柔性层、刚性层和抛光层。通过弹簧的弹性变形，自动补偿由于机床、装调或工件本身带来的误差，实现非球面元件的高精度面形加工。 |
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