| 专利名称 | 光刻照明系统 | 申请号 | CN201310030574.9 | 专利类型 | 发明专利 | 公开（公告）号 | CN103092006A | 公开（授权）日 | 2013.05.08 | 申请（专利权）人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 曾爱军;朱玲琳;方瑞芳;黄惠杰 | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I | IPC主分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I;G02B3/00(2006.01)I | 专利有效期 | 光刻照明系统 至光刻照明系统 | 法律状态 | 实质审查的生效 | 说明书摘要 | 一种光刻照明系统，包括激光光源，沿激光光源的激光前进方向依次是准直扩束单元、光瞳整形单元、第一微透镜阵列、微积分棒阵列、微扫描狭缝阵列、第二微透镜阵列、聚光镜组和掩膜，运动控制单元控制所述的微扫描狭缝阵列的运动，本发明光刻照明系统减小了扫描狭缝的扫描行程和速度，降低了扫描狭缝振动带来的影响，提高了系统透过率，且具有结构简单的特点。 |
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