| 专利名称 | 一种等离子体增强化学气相沉积设备 | 申请号 | CN201220455211.0 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN202898532U | 公开（授权）日 | 2013.04.24 | 申请（专利权）人 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 发明（设计）人 | 葛芳芳;李艳玲;黄峰 | 主分类号 | C23C16/44(2006.01)I | IPC主分类号 | C23C16/44(2006.01)I | 专利有效期 | 一种等离子体增强化学气相沉积设备 至一种等离子体增强化学气相沉积设备 | 法律状态 | 说明书摘要 | 本实用新型公开了一种等离子体增强化学气相沉积设备，包括射频电源、镀膜室以及与镀膜室连通的输气管，所述射频电源与镀膜室内的电极通过射频电流传输装置连接，所述射频电流传输装置包括设有冷却介质进口和冷却介质出口的导电管，所述导电管一端与射频电源连接，另一端与镀膜室内的电极连接。本实用新型通过设置射频电流传输装置，可以降低高功率的甚高频及高频电流在传输过程中的发热量，减小甚高频及高频电流在传输过程中损耗，提高电源功率的有效使用率，其结构简单，易于方便实施。 |
1、源头对接，价格透明
2、平台验证，实名审核
3、合同监控，代办手续
4、专员跟进，交易保障