| 专利名称 | 基于控制腐蚀的气囊式研抛装置 | 申请号 | CN201220407973.3 | 专利类型 | 实用新型 | 公开（公告）号 | CN202825477U | 公开（授权）日 | 2013.03.27 | 申请（专利权）人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | 发明（设计）人 | 马臻;许亮;丁蛟腾;陈钦芳 | 主分类号 | B24B13/01(2006.01)I | IPC主分类号 | B24B13/01(2006.01)I;B24B41/04(2006.01)I;B24B51/00(2006.01)I | 专利有效期 | 基于控制腐蚀的气囊式研抛装置 至基于控制腐蚀的气囊式研抛装置 | 法律状态 | 授权 | 说明书摘要 | 本实用新型提供一种基于控制腐蚀的气囊式研抛装置，主要解决了现有光学元件，尤其是非球面光学元件加工时成本较高，加工效率较低的问题。该基于控制腐蚀的气囊式研抛装置包括连接有气泵的气囊式抛光头，气囊式抛光头包括设置在抛光头主体上的气囊，还包括承载机构和腐蚀液储液槽，承载机构一侧用于承载被加工元件，本实用新型实现了非球面的整体研抛，而不是常用的环带修抛，把非球面的加工难度降低到了球面加工的水平；另外将化学腐蚀机理引入光学加工，并通过加热实现腐蚀速率的加快，显著提高了光学元件的材料去除水平，可完成大非球面度的铣磨工作，且实现了非球面铣磨与抛光在同一台机床上完成。 |
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